本設(shè)備是應(yīng)用于干蝕刻的一種設(shè)備，當(dāng)在平板電極之間施加 13.56MHz 的高頻（RF，radio frequency）電壓時(shí)會(huì)產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離層（ion sheath），在其中放入試樣，離子撞擊試樣而完成化學(xué)反應(yīng)蝕刻
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