suss光刻機

精度高，良好的光學性能，最新曝光方式(例如UVLED)。

用于從光掩膜到光敏涂層的基板，自動1:1直接投影的光刻系統(tǒng)。

手動或自動將基板上的結構對準掩膜。

可加工的基材尺寸和形狀如下:圓基板(晶片)從2英寸至200mm；從2英寸正方形襯底到6英寸。

掩膜尺寸:SEMI規(guī)格，標準最大7“x 7”(SEMI)。