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電子束直寫設(shè)備是一種利用電子束在涂有電子抗蝕劑（即光刻膠）的晶片上直接描畫圖形的光刻技術(shù)。電子抗蝕劑是一種對電子敏感的高分子聚合物，經(jīng)過電子束掃描過的電子抗蝕劑發(fā)生分子鏈重組，使曝光圖形部分的抗蝕劑發(fā)生化學(xué)性質(zhì)改變，經(jīng)過顯影和定影，獲得高分辨率的抗蝕劑曝光圖形。應(yīng)用于8 吋以下基板（可曝光面積6吋）的高速直寫，適合衍射光學(xué)元件的加工及化合物半導(dǎo)體器件的高速加工?？芍苯訉懭氲陀?0nm分辨率的精細線
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