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等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

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制造國 日本
設(shè)備生成廠家 愛發(fā)科真空技術(shù)(蘇州)有限公司
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通過射頻方式產(chǎn)生等離子體,在半導(dǎo)體襯底上沉積高質(zhì)量的介質(zhì)薄膜(例如氧化硅SiO2、氮化硅SiNx、氮氧硅SiOxNy等)。

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